Optical Microlithography XXXII : 26-27 February 2019, San Jose, California, Unites States (Englisch)
- Neue Suche nach: Optical Microlithography, Veranstaltung
- Weitere Informationen zu Optical Microlithography, Veranstaltung:
- http://d-nb.info/gnd/1188892266
- Neue Suche nach: SPIE
- Weitere Informationen zu SPIE:
- http://d-nb.info/gnd/10182148-7
- Neue Suche nach: Kye, Jongwook
- Neue Suche nach: Owa, Soichi
- Neue Suche nach: Optical Microlithography, Veranstaltung
- Weitere Informationen zu Optical Microlithography, Veranstaltung:
- http://d-nb.info/gnd/1188892266
- Neue Suche nach: SPIE
- Weitere Informationen zu SPIE:
- http://d-nb.info/gnd/10182148-7
2019
-
ISBN:
- Konferenzband / Elektronische Ressource
-
Titel:Optical Microlithography XXXII : 26-27 February 2019, San Jose, California, Unites States
-
Beteiligte:Kye, Jongwook ( Herausgeber:in ) / Owa, Soichi ( Herausgeber:in ) / Optical Microlithography, Veranstaltung ( Autor:in ) / SPIE ( Herausgebendes Organ , Sponsor:in )
-
Kongress:Optical Microlithography ; 2019 ; San Jose, Calif.
SPIE Advanced Lithography ; 2019 ; San Jose, Calif. -
Erschienen in:Proceedings of SPIE ; volume 10961
-
Verlag:
- Neue Suche nach: SPIE
-
Erscheinungsort:Bellingham, Washington, USA
-
Erscheinungsdatum:2019
-
Format / Umfang:1 Online-Ressource
-
Anmerkungen:Illustrationen
Campusweiter Zugriff (Universität Hannover). - Vervielfältigungen (z.B. Kopien, Downloads) sind nur von einzelnen Kapiteln oder Seiten und nur zum eigenen wissenschaftlichen Gebrauch erlaubt. Keine Weitergabe an Dritte.
Teilkonferenz von SPIE Advanced Lithography 2019
Enthält ausgearbeitete Vorträge teilweise zusätzlich in Form von Videos (Präsentationsfolien), vereinzelt Vorträge nur in Form von Videos (Präsentationsfolien)
Literaturangaben -
ISBN:
-
Medientyp:Konferenzband
-
Format:Elektronische Ressource
-
Sprache:Englisch
- Neue Suche nach: 53.56 / 50.94
- Weitere Informationen zu Basisklassifikation
-
Schlagwörter:
-
Klassifikation:
-
Datenquelle: