Challenge for effective OCV control in 90 nm logic gate using ArF lithography (Englisch)
- Neue Suche nach: Kang, Hyun-Jae
- Neue Suche nach: Lee, Sung-Woo
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- Neue Suche nach: Cho, Han-Ku
- Neue Suche nach: Han, Woo-Sung
- Neue Suche nach: Moon, Joo-Tae
- Neue Suche nach: Kang, Hyun-Jae
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- Neue Suche nach: Yeo, Gi-Sung
- Neue Suche nach: Lee, Jung-Hyeon
- Neue Suche nach: Cho, Han-Ku
- Neue Suche nach: Han, Woo-Sung
- Neue Suche nach: Moon, Joo-Tae
In:
Optical Microlithography, 16
;
1194-1201
;
2003
-
ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:Challenge for effective OCV control in 90 nm logic gate using ArF lithography
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Beteiligte:Kang, Hyun-Jae ( Autor:in ) / Lee, Sung-Woo ( Autor:in ) / Lee, Doo-Youl ( Autor:in ) / Yeo, Gi-Sung ( Autor:in ) / Lee, Jung-Hyeon ( Autor:in ) / Cho, Han-Ku ( Autor:in ) / Han, Woo-Sung ( Autor:in ) / Moon, Joo-Tae ( Autor:in )
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Erschienen in:Optical Microlithography, 16 ; 1194-1201Proceedings of the SPIE - The International Society for Optical Engineering ; 5040 ; 1194-1201
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:2003
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Format / Umfang:8 Seiten, 4 Quellen
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ISSN:
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Coden:
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DOI:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle: