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Synonyme wurden verwendet für: Elektronenstrahllithografie
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Verwendete Synonyme:
- e beam lithography
- electron beam lithography
- elektronenlithografie
- elektronenlithographie
- elektronenstrahllithographie
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Technischer Kurzbericht zum MNPQ-Projekt "Modellierungsinfrastruktur für die qualitative Verbesserung der Ergebnisse ultrapräziser Elektronenlithographie-Anlagen bei Strukturgrößen von 22 nm und darunter" : (Kurzname ModELitho)
Freier ZugriffTIBKAT | 2011|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Technischer Kurzbericht zum MNPQ-Projekt "Modellierungsinfrastruktur für die qualitative Verbesserung der Ergebnisse ultrapräziser Elektronenlithographie-Anlagen bei Strukturgrößen von 22 nm und darunter" : (Kurzname ModELitho)
TIBKAT | 2011|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Verbundprojekt Grundlagen der Geräte- und Prozesstechnik für Maskenschreiber (E-Beam) : Teilprojekt: Technologieentwicklung für die 100nm Maskengeneration ; Laufzeit: 1.11.1999 - 31.10.2003 ; Abschluss-Bericht Institut für Mikroelektronik Stuttgart
TIBKAT | 2004|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Projekt: Photonische Nanomaterialien : Kurzname: PhoNa : Abschlussbericht : Laufzeit: 01.12.2009-30.11.2014
TIBKAT | 2015|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
TPI: Photonmanagement mit photonischen Nanomaterialien in optoelektronischen Systemen sowie Effizienzsteigerung photovoltaischer Elemente mit nanostrukturierten photonischen Materialien, TPII: Verstärkung der Raman-Streuung von in detergenz solubilisierten optisch aktiven Membranproteinen durch photonische Nanomaterialien und deren Anwendung in Einzelmolekülstudien : Schlussbericht : Berichtszeitraum: 1.12.2009-30.11.2014
TIBKAT | 2015|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Verbundprojekt Grundlagen der Geräte- und Prozesstechnik für Maskenschreiber (E-Beam) : Teilprojekt: Technologieentwicklung für die 100nm Maskengeneration ; Laufzeit: 1.11.1999 - 31.10.2003 ; Abschluss-Bericht Institut für Mikroelektronik Stuttgart
Freier ZugriffTIBKAT | 2004|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Future Lithography: Maskenschreiber (E-Beam) : Schlußbericht zu Nr. 8.2 NKBF 98 ; Laufzeit des Vorhabens: 01.11.99 - 31.10.03 ; [Future Litho] ; [Abschlußbericht]
Freier ZugriffTIBKAT | 2004|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Raman Lasing and Soliton Mode-Locking in Lithium Niobate Microresonators
NTIS | 2020|Schlagwörter: Electron beam lithography -
Verbundprojekt: Grundlagen der Geräte- und Prozeßtechnik für Maskenschreiber (E-Beam) : Laufzeit des Vorhabens: 01.11.1999 - 31.10.2003
TIBKAT | 2003|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Grundlagen der Geräte- und Prozeßtechnik für Maskenschreiber (E-Beam) : Abschlussbericht ; Laufzeit: 1.11.1999 bis 31.10.2003
TIBKAT | 2003|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Projekt: Photonische Nanomaterialien : Kurzname: PhoNa : Abschlussbericht : Laufzeit: 01.12.2009-30.11.2014
Freier ZugriffTIBKAT | 2015|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Integration of Three-Dimensional Silicon Microtip Arrays onto Flexible Substrate
NTIS | 2018|Schlagwörter: Electron beam lithography -
Magnetostatic Twists in Room Temperature Skyrmions Explored by Nitrogen Vacancy Center Spin Texture Reconstruction
NTIS | 2018|Schlagwörter: Electron beam lithography -
Grundlagen der Geräte- und Prozeßtechnik für Maskenschreiber (E-Beam) : Laufzeit des Vorhabens: 01.11.1999 - 31.10.2003 ; Schlußbericht
Freier ZugriffTIBKAT | 2003|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Future Lithography: Maskenschreiber (E-Beam) : Schlußbericht zu Nr. 8.2 NKBF 98 ; Laufzeit des Vorhabens: 01.11.99 - 31.10.03 ; [Future Litho] ; [Abschlußbericht]
TIBKAT | 2004|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Spatial-Phase-Locked Electron-Beam Lithography
NTIS | 1999|Schlagwörter: Splebl(Spatial phase locked electron beam lithography), Electron beam lithography -
Acquisition of a Scanning Electron Microscope for Electron Beam Lithography
NTIS | 1999|Schlagwörter: Electron beam lithography -
TPI: Photonmanagement mit photonischen Nanomaterialien in optoelektronischen Systemen sowie Effizienzsteigerung photovoltaischer Elemente mit nanostrukturierten photonischen Materialien, TPII: Verstärkung der Raman-Streuung von in detergenz solubilisierten optisch aktiven Membranproteinen durch photonische Nanomaterialien und deren Anwendung in Einzelmolekülstudien : Schlussbericht : Berichtszeitraum: 1.12.2009-30.11.2014
Freier ZugriffTIBKAT | 2015|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen : Einführung und Erprobung der Elektronenstrahllithographie
TIBKAT | 1980|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Metrology for the Sub-100 NM Domain Via Fiducial Grids
NTIS | 2003|Schlagwörter: Electron beam lithography
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