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Technischer Kurzbericht zum MNPQ-Projekt "Modellierungsinfrastruktur für die qualitative Verbesserung der Ergebnisse ultrapräziser Elektronenlithographie-Anlagen bei Strukturgrößen von 22 nm und darunter" : (Kurzname ModELitho)
Freier ZugriffTIBKAT | 2011|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Lineare und nichtlineare optische Eigenschaften von asymmetrischen Nanostrukturen und Oligomeren
DataCite | 2020|Schlagwörter: Plasmon , Antenne , Elektronenstrahllithografie -
Lineare und nichtlineare optische Eigenschaften von asymmetrischen Nanostrukturen und Oligomeren
Freier ZugriffTIBKAT | 2020|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Technischer Kurzbericht zum MNPQ-Projekt "Modellierungsinfrastruktur für die qualitative Verbesserung der Ergebnisse ultrapräziser Elektronenlithographie-Anlagen bei Strukturgrößen von 22 nm und darunter" : (Kurzname ModELitho)
TIBKAT | 2011|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Modification of aromatic self-assembled monolayers by electron irradiation
Freier ZugriffTIBKAT | 2017|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Modification of aromatic self-assembled monolayers by electron irradiation
TIBKAT | 2017|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Conducting polymers as charge dissipator layers for electron beam lithography
TIBKAT | 2006|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Deterministisch integrierte Quantenpunkt-Wellenleiter-Halbleiterbauelemente
TIBKAT | 2020|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Exploring electron beam induced surface activation for the fabrication of well-defined nanostructures : on the role of catalytic processes, substrates and precursors
TIBKAT | 2015|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Development of RAC devices fabricated using e-beam lithography for chirp transform spectrometers
TIBKAT | 2010|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Synthesis and combinatorial optimization of novel star-shaped resist materials for lithographic applications
TIBKAT | 2012|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Entwicklung und Untersuchung eines Feldemitter-Kathodenarray mit einzeln adressierbaren, im fokussierten Elektronenstrahl direkt abgeschiedenen Emissionsspitzen
TIBKAT | 2006|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Experimentelle Untersuchungen der magnetischen und elektronischen Eigenschaften von LaAlO3/SrTiO3-Heterostrukturen
Freier ZugriffTIBKAT | 2021|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Verbundprojekt Grundlagen der Geräte- und Prozesstechnik für Maskenschreiber (E-Beam) : Teilprojekt: Technologieentwicklung für die 100nm Maskengeneration ; Laufzeit: 1.11.1999 - 31.10.2003 ; Abschluss-Bericht Institut für Mikroelektronik Stuttgart
TIBKAT | 2004|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Projekt: Photonische Nanomaterialien : Kurzname: PhoNa : Abschlussbericht : Laufzeit: 01.12.2009-30.11.2014
TIBKAT | 2015|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
TPI: Photonmanagement mit photonischen Nanomaterialien in optoelektronischen Systemen sowie Effizienzsteigerung photovoltaischer Elemente mit nanostrukturierten photonischen Materialien, TPII: Verstärkung der Raman-Streuung von in detergenz solubilisierten optisch aktiven Membranproteinen durch photonische Nanomaterialien und deren Anwendung in Einzelmolekülstudien : Schlussbericht : Berichtszeitraum: 1.12.2009-30.11.2014
TIBKAT | 2015|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Verbundprojekt Grundlagen der Geräte- und Prozesstechnik für Maskenschreiber (E-Beam) : Teilprojekt: Technologieentwicklung für die 100nm Maskengeneration ; Laufzeit: 1.11.1999 - 31.10.2003 ; Abschluss-Bericht Institut für Mikroelektronik Stuttgart
Freier ZugriffTIBKAT | 2004|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Future Lithography: Maskenschreiber (E-Beam) : Schlußbericht zu Nr. 8.2 NKBF 98 ; Laufzeit des Vorhabens: 01.11.99 - 31.10.03 ; [Future Litho] ; [Abschlußbericht]
Freier ZugriffTIBKAT | 2004|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Chemical lithography with monomolecular templates
TIBKAT | 2014|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie -
Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie
TIBKAT | 2005|Schlagwörter: Elektronenstrahllithografie
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