Advantageous possibilities, design aspects and technical use of double-ring magnetron sputter sources (Englisch)
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In:
Plasma surface engineering
1/3
;
85-91
;
1995
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ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:Advantageous possibilities, design aspects and technical use of double-ring magnetron sputter sources
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Beteiligte:Frach, P. ( Autor:in ) / Goedicke, K. ( Autor:in ) / Winkler, T. ( Autor:in ) / Gottfried, C. ( Autor:in ) / Stals, L. / European Joint Committee on Plasma Ion and Surface Engineering
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Kongress:4th International conference, Plasma surface engineering ; 1994 ; Garmisch-Partenkirchen; Germany
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Erschienen in:Plasma surface engineering , 1/3 ; 85-91SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY ; 74/75, 1/3 ; 85-91
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Verlag:
- Neue Suche nach: Elsevier
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Erscheinungsdatum:01.01.1995
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Format / Umfang:7 pages
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ISSN:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle:
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