-SiC deposition by hot-wall MOCVD using tetramethylsilane (Englisch)
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In:
Advanced deposition processes and characterization of protective coating
1/2
;
134-138
;
1996
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ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:-SiC deposition by hot-wall MOCVD using tetramethylsilane
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Beteiligte:Henry, F. ( Autor:in ) / Armas, B. ( Autor:in ) / Combescure, C. ( Autor:in ) / Figueras, A. ( Autor:in ) / Barna, P. B. / Pauleau, Y. / Wahl, G. / European Materials Research Society
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Kongress:Symposium, Advanced deposition processes and characterization of protective coating ; 1995 ; Strasbourg; France
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Erschienen in:SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY ; 80, 1/2 ; 134-138
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Verlag:
- Neue Suche nach: Elsevier
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Erscheinungsdatum:01.01.1996
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Format / Umfang:5 pages
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Anmerkungen:Held as part of the Spring conference
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ISSN:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle:
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