A New Resonace Photoionization SNMS Instrument for Submicron Microarea Analsysis (Englisch)
- Neue Suche nach: Shichi, H.
- Neue Suche nach: Osabe, S.
- Neue Suche nach: Sugaya, M.
- Neue Suche nach: Kanehori, K.
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- Neue Suche nach: Osabe, S.
- Neue Suche nach: Sugaya, M.
- Neue Suche nach: Kanehori, K.
- Neue Suche nach: Tanuma, S.
In:
Practical surface analysis
2
;
212-215
;
1999
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ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:A New Resonace Photoionization SNMS Instrument for Submicron Microarea Analsysis
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Beteiligte:Shichi, H. ( Autor:in ) / Osabe, S. ( Autor:in ) / Sugaya, M. ( Autor:in ) / Kanehori, K. ( Autor:in ) / Tanuma, S.
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Kongress:International symposium; lst, Practical surface analysis ; 1998 ; Matsue; Japan
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Erschienen in:Practical surface analysis , 2 ; 212-215JOURNAL OF SURFACE ANALYSIS ; 5, 2 ; 212-215
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Verlag:
- Neue Suche nach: Surface Analysis Society of Japan
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Erscheinungsdatum:01.01.1999
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Format / Umfang:4 pages
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Anmerkungen:Also known as PSA-98
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ISSN:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle:
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