Optimisation of doped microcrystalline silicon films deposited at very low temperatures by hot-wire CVD (Englisch)
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In:
Microcrystalline and nanocrystalline semiconductors
;
278-283
;
2000
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ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:Optimisation of doped microcrystalline silicon films deposited at very low temperatures by hot-wire CVD
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Beteiligte:Voz, C. ( Autor:in ) / Peiro, D. ( Autor:in ) / Bertomeu, J. ( Autor:in ) / Soler, D. ( Autor:in ) / Fonrodona, M. ( Autor:in ) / Andreu, J. ( Autor:in ) / Thonissen, M. / Nassiopoulou, A.
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Kongress:Symposium I, Microcrystalline and nanocrystalline semiconductors ; 1999 ; Strasbourg, France
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Erschienen in:MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ; 69-70 ; 278-283
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Verlag:
- Neue Suche nach: Elsevier
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Erscheinungsdatum:01.01.2000
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Format / Umfang:6 pages
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Anmerkungen:Held as part of the European Materials Research Society 1999 Spring Meeting
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ISSN:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle:
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