Development of Cluster-Suppressed Plasma CVD Reactor for High Quality a-Si:H Deposition (Englisch)
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In:
Plasma processing
;
421-422
;
2001
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:Development of Cluster-Suppressed Plasma CVD Reactor for High Quality a-Si:H Deposition
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Beteiligte:Shiratani, M. ( Autor:in ) / Sonoda, T. ( Autor:in ) / Shikaani, N. ( Autor:in ) / Koga, K. ( Autor:in ) / Watanabe, Y. ( Autor:in ) / Sato, N. / Fujiyama, H.
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Kongress:Symposium; 18th, Plasma processing ; 2001 ; Kyoto, Japan
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Erschienen in:Plasma processing ; 421-422
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Verlag:
- Neue Suche nach: [np]
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Erscheinungsdatum:01.01.2001
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Format / Umfang:2 pages
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Anmerkungen:Held with the plasma science symposium 2001
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle:
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