Thermal Diffusivity of Al-Doped ZnO Thin Films Deposited by DC Magnetron Sputtering (Japanisch)
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In:
Thermophysical properties
4
;
A106
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2009
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:Thermal Diffusivity of Al-Doped ZnO Thin Films Deposited by DC Magnetron Sputtering
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Beteiligte:Kimura, K. ( Autor:in ) / Yagi, T. ( Autor:in ) / Taketoshi, N. ( Autor:in ) / Baba, T. ( Autor:in ) / Oka, N. ( Autor:in ) / Sato, Y. ( Autor:in ) / Shigesato, Y. ( Autor:in )
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Kongress:Symposium; 30th, Thermophysical properties ; 2009 ; Yonezawa-shi, Japan
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Erschienen in:Thermophysical properties , 4 ; A106JAPAN JOURNAL OF THERMOPHYSICAL PROPERTIES ; 23, 4 ; A106
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Verlag:
- Neue Suche nach: JSTP
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Erscheinungsdatum:01.01.2009
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Format / Umfang:A106
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Anmerkungen:Text in Japanese with summaries in English; Held in Oriental Section
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Japanisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle:
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