Comparative STudy on in-situ Ellipsometric of III-Nitride Film Growth via Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition (Englisch)
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In:
Nanotechnology for electronics, photonics, biosensors, and emerging technologies (Annual symposium)
;
77-84
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2021
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ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:Comparative STudy on in-situ Ellipsometric of III-Nitride Film Growth via Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
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Beteiligte:Mohammad, A. ( Autor:in ) / Shukla, D. ( Autor:in ) / Ilhom, S. ( Autor:in ) / Willis, B. ( Autor:in ) / Okyay, A. K. ( Autor:in ) / Biyikli, N. ( Autor:in )
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Kongress:Nanotechnology for electronics, photonics, biosensors, and emerging technologies (Annual symposium)
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Erschienen in:Nanotechnology for electronics, photonics, biosensors, and emerging technologies (Annual symposium) ; 77-84Selected topics in electronics and systems ; 64 ; 77-84
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Verlag:
- Neue Suche nach: World Scientific
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Erscheinungsdatum:01.01.2021
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Format / Umfang:8 pages
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ISSN:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Datenquelle:
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