Light Interference Map: A Prescriptive Optimization of Lithography-Friendly Layout (Englisch)
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In:
IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
;
29
, 1
;
44-49
;
2016
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ISSN:
- Aufsatz (Zeitschrift) / Print
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Titel:Light Interference Map: A Prescriptive Optimization of Lithography-Friendly Layout
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Beteiligte:
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Erschienen in:IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING ; 29, 1 ; 44-49
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Verlag:
- Neue Suche nach: IEEE INSTITUTE OF ELECTRICAL AND ELECTRONICS
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Erscheinungsdatum:01.01.2016
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Format / Umfang:6 pages
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ISSN:
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Medientyp:Aufsatz (Zeitschrift)
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Format:Print
-
Sprache:Englisch
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Klassifikation:
-
Datenquelle:
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Inhaltsverzeichnis – Band 29, Ausgabe 1
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A Strategy to Characterize Nanofabrication Processes With Large RPM (Experimental Run, Physics, and Measurement) UncertaintiesWang, Li / Huang, Qiang et al. | 2016
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Step-Down Spatial Randomness Test for Detecting Abnormalities in DRAM Wafers with Multiple Spatial MapsKim, Byunghoon / Jeong, Young-Seon / Tong, Seung Hoon / Chang, In-Kap / Jeong, Myong-Kee et al. | 2016
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2016 Lester Eastman Conference on High Performance Devices| 2016
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Table of contents| 2016
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IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing publication information| 2016
- C3
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IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing information for authors| 2016
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