Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII : 22-26 February 2021, online only, Unites States (Englisch)
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2021
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ISBN:
- Konferenzband / Elektronische Ressource
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Titel:Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII : 22-26 February 2021, online only, Unites States
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Beteiligte:Felix, Nelson M. ( Herausgeber:in ) / Lio, Anna ( Herausgeber:in ) / Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography, Veranstaltung ( Autor:in ) / SPIE ( Herausgebendes Organ , Sponsor:in )
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Kongress:Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography ; 2021 ; San Jose, Calif.
SPIE Advanced Lithography ; 2021 ; San Jose, Calif. -
Erschienen in:Proceedings of SPIE ; volume 11609
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Verlag:
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Erscheinungsort:Bellingham, Washington, USA
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Erscheinungsdatum:2021
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Format / Umfang:1 Online-Ressource
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Anmerkungen:Illustrationen
Campusweiter Zugriff (Universität Hannover). - Vervielfältigungen (z.B. Kopien, Downloads) sind nur von einzelnen Kapiteln oder Seiten und nur zum eigenen wissenschaftlichen Gebrauch erlaubt. Keine Weitergabe an Dritte.
Teilkonferenz von SPIE Advanced Lithography 2021
Enthält teilweise Vorträge in Form von Videos (Präsentationsfolien), teilweise ausgearbeitete Vorträge
Literaturangaben -
ISBN:
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Medientyp:Konferenzband
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Klassifikation:
BKL: 53.56 Halbleitertechnologie -
Datenquelle: