Interface study of thermally driven chemical kinetics involved in Ti/Si3N4 based metal-substrate assembly by X-ray photoelectron spectroscopy (Englisch)
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2020
- Preprint / Elektronische Ressource
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Titel:Interface study of thermally driven chemical kinetics involved in Ti/Si3N4 based metal-substrate assembly by X-ray photoelectron spectroscopy
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Beteiligte:Yadav, Sachin ( Autor:in ) / Sahoo, Sangeeta ( Autor:in )
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Erschienen in:
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:2020
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DOI:
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Medientyp:Preprint
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Englisch
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Lizenzbestimmungen:
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Datenquelle: