On the Mixed Gas Behavior of Organosilica Membranes Fabricated by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) (Unbekannt)
Freier Zugriff
- Neue Suche nach: Rubner, Jens
- Neue Suche nach: Skribbe, Soukaina
- Neue Suche nach: Roth, Hannah
- Neue Suche nach: Kleines, Lara
- Neue Suche nach: Dahlmann, Rainer
- Neue Suche nach: Wessling, Matthias
- Neue Suche nach: Rubner, Jens
- Neue Suche nach: Skribbe, Soukaina
- Neue Suche nach: Roth, Hannah
- Neue Suche nach: Kleines, Lara
- Neue Suche nach: Dahlmann, Rainer
- Neue Suche nach: Wessling, Matthias
- Neue Suche nach: Technische Informationsbibliothek (TIB)
2022
- Sonstige / Elektronische Ressource
-
Titel:On the Mixed Gas Behavior of Organosilica Membranes Fabricated by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
-
Beteiligte:Rubner, Jens ( Autor:in ) / Skribbe, Soukaina ( Autor:in ) / Roth, Hannah ( Autor:in ) / Kleines, Lara ( Autor:in ) / Dahlmann, Rainer ( Autor:in ) / Wessling, Matthias ( Autor:in ) / Technische Informationsbibliothek (TIB) ( Gastgebende Institution )
-
Verlag:
- Neue Suche nach: Basel : MDPI
-
Erscheinungsdatum:2022
-
DOI:
-
Medientyp:Sonstige
-
Format:Elektronische Ressource
-
Sprache:Unbekannt
- Neue Suche nach: 570
- Weitere Informationen zu Dewey Decimal Classification
-
Schlagwörter:
-
Klassifikation:
DDC: 570 -
Lizenzbestimmungen:
-
Datenquelle: