Block copolymer made of photosensitive printing plate material and considering both flexibility and wear resistance and method for manufacturing same (Chinesisch)
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2021
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Block copolymer made of photosensitive printing plate material and considering both flexibility and wear resistance and method for manufacturing same
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Weitere Titelangaben:兼顾柔韧性和耐磨耗性的感光性印刷版材用嵌段共聚物及其制造方法
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Patentnummer:CN112457457
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:09.03.2021
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Chinesisch
- Neue Suche nach: C08F / B41N / G03F
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: C08F MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS, Makromolekulare Verbindungen, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind / B41N PRINTING PLATES OR FOILS, Druckplatten oder -folien / G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: