Pattern manufacturing method and pattern substrate (Chinesisch)
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2022
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Pattern manufacturing method and pattern substrate
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Weitere Titelangaben:图形制造方法及图形基板
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Patentnummer:CN113948372
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:KANG XIAOXU ( Autor:in ) / ZHAO YUHANG ( Autor:in )
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:18.01.2022
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Chinesisch
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Klassifikation:
IPC: H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: