Hard mask composition, preparation method thereof and pattern forming method (Chinesisch)
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2022
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Hard mask composition, preparation method thereof and pattern forming method
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Weitere Titelangaben:一种硬掩膜组合物及其制备方法、形成图案的方法
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Patentnummer:CN113960882
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:21.01.2022
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Chinesisch
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- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: