Low temperature plasma enhanced chemical vapor deposition process including pre-heating showerhead (Chinesisch)
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2022
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Low temperature plasma enhanced chemical vapor deposition process including pre-heating showerhead
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Weitere Titelangaben:包含预热喷头的低温等离子体增强化学气相沉积处理
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Patentnummer:CN114514594
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:HAO BOYI ( Autor:in ) / WEI JOSEPH ( Autor:in ) / QI CHENGZHU ( Autor:in ) / KUMAR PRAGATI ( Autor:in ) / SADARI SADAR ( Autor:in )
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:17.05.2022
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Chinesisch
- Neue Suche nach: H01J / C23C
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
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Datenquelle: