Optical proximity correction method and system, mask, equipment and storage medium (Chinesisch)
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2023
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Optical proximity correction method and system, mask, equipment and storage medium
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Weitere Titelangaben:光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质
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Patentnummer:CN115718403
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:28.02.2023
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Chinesisch
- Neue Suche nach: G03F
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: