Method and system for cleaning polycrystalline silicon (Chinesisch)
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2023
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Method and system for cleaning polycrystalline silicon
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Weitere Titelangaben:一种用于对多晶硅进行清洗的方法和系统
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Patentnummer:CN116759309
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:PAN HAO ( Autor:in ) / JEON HYUN-KUK ( Autor:in )
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:15.09.2023
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Chinesisch
- Neue Suche nach: H01L / B08B
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Klassifikation:
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Datenquelle: