Preparation method of photocuring 3D printing resin-based gradient wave-absorbing structure (Chinesisch)
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2024
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Preparation method of photocuring 3D printing resin-based gradient wave-absorbing structure
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Weitere Titelangaben:一种光固化3D打印树脂基梯度吸波结构的制备方法
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Patentnummer:CN117430754
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:23.01.2024
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Chinesisch
- Neue Suche nach: C08F / B29C / B33Y / C08K
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: C08F MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS, Makromolekulare Verbindungen, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind / B29C Formen oder Verbinden von Kunststoffen, SHAPING OR JOINING OF PLASTICS / B33Y ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING, Additive (generative) Fertigung, d. h. die Herstellung von dreidimensionalen [3D] Bauteilen durch additive Abscheidung, additive Agglomeration oder additive Schichtung, z. B. durch 3D- Drucken, Stereolithografie oder selektives Lasersintern / C08K Verwendung von anorganischen oder nichtmakromolekularen organischen Stoffen als Zusatzstoffe, USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES AS COMPOUNDING INGREDIENTS -
Datenquelle: