Anordnung und Lithographieanlage (Deutsch)
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2017
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Anordnung und Lithographieanlage
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Patentnummer:DE102016208929
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:EICHER DIRK ( Autor:in ) / HOLLE ANSAGAR ( Autor:in )
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:11.05.2017
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Deutsch
- Neue Suche nach: C22C / G03F / F16F / G02B
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: C22C Legierungen, ALLOYS / G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES / F16F SPRINGS, Federn / G02B Optische Elemente, Systeme oder Geräte, OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS -
Datenquelle: