Zylindrisches Sputter-Target-Material (Deutsch)
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2016
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Zylindrisches Sputter-Target-Material
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Patentnummer:DE112015000125
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:21.04.2016
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Deutsch
- Neue Suche nach: C23C / C22C / C22F / H01L
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: C23C Beschichten metallischer Werkstoffe, COATING METALLIC MATERIAL / C22C Legierungen, ALLOYS / C22F CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS OR NON-FERROUS ALLOYS, Verändern der physikalischen Struktur von Nichteisenmetallen oder Nichteisenlegierungen / H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: