ELECTROMAGNETIC EFFECT RESISTANT SPATIAL LIGHT MODULATOR (Japanisch)
Freier Zugriff
- Neue Suche nach: THOMAS L WEAVER
- Neue Suche nach: THOMAS L WEAVER
2018
- Patent / Elektronische Ressource
-
Titel:ELECTROMAGNETIC EFFECT RESISTANT SPATIAL LIGHT MODULATOR
-
Weitere Titelangaben:耐電磁効果空間光変調器
-
Patentnummer:JP2018120207
-
Patentanmelder:
-
Patentfamilie:
-
Beteiligte:THOMAS L WEAVER ( Autor:in )
-
Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
-
Erscheinungsdatum:02.08.2018
-
Medientyp:Patent
-
Format:Elektronische Ressource
-
Sprache:Japanisch
- Neue Suche nach: G02F / B82Y
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
-
Klassifikation:
IPC: G02F DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING,..., Vorrichtungen oder Anordnungen, deren optische Arbeitsweise durch Änderung der optischen Eigenschaften des Mediums der Vorrichtungen oder Anordnungen geändert wird zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder der Richtung von... / B82Y Bestimmter Gebrauch oder bestimmte Anwendung von Nanostrukturen, SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES -
Datenquelle: