Formation of epitaxial layers via dislocation filtering (Koreanisch)
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2018
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Formation of epitaxial layers via dislocation filtering
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Weitere Titelangaben:전위 필터링을 통한 에피택셜층들의 형성
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Patentnummer:KR20180002061
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:MARGETIS JOE ( Autor:in ) / TOLLE JOHN ( Autor:in )
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:05.01.2018
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Koreanisch
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Klassifikation:
IPC: H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: