펄스 또는 프로파일 점 가열에 의한 EPI 두께 조정 (Koreanisch)
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2020
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:펄스 또는 프로파일 점 가열에 의한 EPI 두께 조정
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Patentnummer:KR20200115657
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:LAU SHU KWAN ( Autor:in ) / YE ZHIYUAN ( Autor:in ) / ZHU ZUOMING ( Autor:in ) / MYO NYI O ( Autor:in ) / SANCHEZ ERROL ANTONIO C ( Autor:in ) / CHU SCHUBERT ( Autor:in )
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:07.10.2020
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Koreanisch
- Neue Suche nach: H01L
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: