COMPOSITION COMPRISING METAL SALTS OF POLYSTYRENE SULFONIC ACID SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF (Koreanisch)
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2022
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:COMPOSITION COMPRISING METAL SALTS OF POLYSTYRENE SULFONIC ACID SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
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Weitere Titelangaben:폴리스티렌설폰산 금속염을 포함하는 조성물, 반도체 소자 및 이의 제조방법
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Patentnummer:KR20220081106
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:SEO JUNG HWA ( Autor:in ) / KANG JU HWAN ( Autor:in ) / AZMAT ALI ( Autor:in ) / BRIGHT WALKER ( Autor:in ) / AHN YO HAN ( Autor:in )
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:15.06.2022
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Koreanisch
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- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: