후면 비아 노출 프로세싱을 위한 방법들 및 장치 (Koreanisch)
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2023
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:후면 비아 노출 프로세싱을 위한 방법들 및 장치
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Patentnummer:KR20230042112
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:LIANTO PRAYUDI ( Autor:in ) / CHI SIK HIN ( Autor:in ) / HUNG SHIH CHAO ( Autor:in ) / GAN PIN GIAN ( Autor:in ) / VINLUAN RICARDO FUJII ( Autor:in ) / MEHTA GAURAV ( Autor:in ) / CHIDAMBARAM RAMESH ( Autor:in ) / SEE GUAN HUEI ( Autor:in ) / SUNDARRAJAN ARVIND ( Autor:in ) / UMMETHALA UPENDRA V ( Autor:in )
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:27.03.2023
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Koreanisch
- Neue Suche nach: H01L
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: