Optical metrology of lithographic processes using asymmetric sub-resolution features to enhance measurement (Englisch)
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2019
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Optical metrology of lithographic processes using asymmetric sub-resolution features to enhance measurement
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Patentnummer:US10417359
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:SOCHA ROBERT JOHN ( Autor:in ) / WALLOW THOMAS I ( Autor:in )
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:17.09.2019
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Englisch
- Neue Suche nach: G06F / G01N / G03F / G06N
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: G06F ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING, Elektrische digitale Datenverarbeitung / G01N Untersuchen oder Analysieren von Stoffen durch Bestimmen ihrer chemischen oder physikalischen Eigenschaften, INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES / G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES / G06N COMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS, Rechnersysteme, basierend auf spezifischen Rechenmodellen -
Datenquelle: