Integrated semiconductor device and method for manufacturing the same (Englisch)
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2024
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:Integrated semiconductor device and method for manufacturing the same
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Patentnummer:US11967521
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:CAO KAI ( Autor:in ) / ZHANG JIANPING ( Autor:in ) / ZHANG LEI ( Autor:in ) / YAO WEIGANG ( Autor:in ) / ZHOU CHUNHUA ( Autor:in )
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:23.04.2024
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Englisch
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- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: