PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY WITH A MEASUREMENT DEVICE (Englisch)
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2018
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY WITH A MEASUREMENT DEVICE
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Patentnummer:US2018024445
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:MUELLER ULRICH ( Autor:in ) / STUEHLER JOACHIM ( Autor:in ) / GROMER OSWALD ( Autor:in ) / FREIMANN ROLF ( Autor:in ) / KAUFMANN PAUL ( Autor:in ) / GEUPPERT BERNHARD ( Autor:in )
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:25.01.2018
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Englisch
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- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: