PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND APPLICATION THEREOF (Englisch)
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2021
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND APPLICATION THEREOF
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Patentnummer:US2021364919
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:25.11.2021
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Englisch
- Neue Suche nach: G03F / C08G
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES / C08G MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS, Makromolekulare Verbindungen, anders erhalten als durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind -
Datenquelle: