RETICLE IN AN APPARATUS FOR EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE (Englisch)
Freier Zugriff
- Neue Suche nach: KIM SANGHYUN
- Neue Suche nach: JEON JINHO
- Neue Suche nach: KIM SANGHYUN
- Neue Suche nach: JEON JINHO
2021
- Patent / Elektronische Ressource
-
Titel:RETICLE IN AN APPARATUS FOR EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE
-
Patentnummer:US2021397076
-
Patentanmelder:
-
Patentfamilie:
-
Beteiligte:KIM SANGHYUN ( Autor:in ) / JEON JINHO ( Autor:in )
-
Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
-
Erscheinungsdatum:23.12.2021
-
Medientyp:Patent
-
Format:Elektronische Ressource
-
Sprache:Englisch
- Neue Suche nach: G03F / H01L
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
-
Klassifikation:
IPC: G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES / H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: