The invention provides a cutting tool (1) comprising a coating (10) on a substrate (5), wherein the coating (10) comprises a first layer element (20), wherein the first layer element (20) has an overall composition comprising the metal or metalloid elements aluminum, chromium, titanium, and silicon, wherein the first layer element (20) comprises a number Nlay of first layer element layers (21), wherein Nlay is at least 2, wherein each of the first layer element layers (21) comprises a nitride layer comprising the metal or metalloid elements aluminum, chromium, titanium and silicon, wherein the Nlay first layer element layers (21) comprise at least two different types of layers (22, 23), wherein the different types of layer (22, 23) at least differ in a silicon content, wherein a first type (22) of the layers (22, 23) has a highest silicon content CSi,H, (in at.%) relative to a total of the metal and the metalloid elements, and wherein a second type (23) of the layers (22, 23) has a lowest silicon content CSi,L (in at.%), relative to a total of the metal and metalloid elements, wherein a ratio of the lowest silicon content CSi,L to the highest silicon content CSi,H is selected from the range of 0.25≤CSi,L/CSi,H≤0.9.
L'invention concerne un outil de coupe (1) comprenant un revêtement (10) sur un substrat (5), le revêtement (10) comprenant un premier élément de couche (20), le premier élément de couche (20) ayant une composition globale comprenant les éléments métalliques ou métalloïdes aluminium, chrome, titane et silicium, le premier élément de couche (20) comprenant un nombre Nlay de couches de premier élément de couche (21), Nlay étant au moins égal à 2, chacune des couches de premier élément de couche (21) comprenant une couche de nitrure comprenant les éléments métalliques ou métalloïdes aluminium, chrome, titane et silicium, les Nlay couches de premier élément de couche (21) comprenant au moins deux différents types de couches (22, 23), les différents types de couche (22, 23) différant au moins en termes d'une teneur en silicium, un premier type (22) des couches (22, 23) ayant une teneur en silicium la plus élevée CSi,H, (en % atomique) par rapport à un total des éléments métalliques et métalloïdes, et un second type (23) des couches (22, 23) ayant une teneur en silicium la plus faible CSi,L (en % atomique), par rapport à un total des éléments métalliques et métalloïdes, un rapport de la teneur en silicium la plus faible CSi,L sur la teneur en silicium la plus élevée CSi,H est sélectionné parmi la plage de 0,25≤CSi,L/CSi,H≤0,9.