RECEPTION SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING RECEPTION SUBSTRATE, LIFTING METHOD, HOLDING METHOD, AND METHOD FOR CLEANING MICROSTRUCTURE (Japanisch)
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2024
- Patent / Elektronische Ressource
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Titel:RECEPTION SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING RECEPTION SUBSTRATE, LIFTING METHOD, HOLDING METHOD, AND METHOD FOR CLEANING MICROSTRUCTURE
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Weitere Titelangaben:SUBSTRAT RÉCEPTEUR AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, PROCÉDÉ DE TRANSFERT VERS L'AVANT INDUIT PAR LASER, PROCÉDÉ DE MAINTIEN, ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE CORPS MICRO-STRUCTURÉ
受け取り基板、受け取り基板の製造方法、リフト方法、保持方法、及び微小構造体の洗浄方法 -
Patentnummer:WO2024085025
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Patentanmelder:
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Patentfamilie:
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Beteiligte:TOYOSHIMA TAKEHARU ( Autor:in ) / OGAWA YOSHINORI ( Autor:in ) / KONDO KAZUNORI ( Autor:in ) / OZAI TOSHIYUKI ( Autor:in )
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Verlag:
- Neue Suche nach: Europäisches Patentamt
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Erscheinungsdatum:25.04.2024
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Medientyp:Patent
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Japanisch
- Neue Suche nach: H01L
- Weitere Informationen zu Internationale Patentklassifikation
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Klassifikation:
IPC: H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Datenquelle: