High-K materials and metal gates for CMOS applications (Englisch)
- Neue Suche nach: Robertson, John
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In:
Materials science and engineering / R
;
88
; 1-41
;
2015
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ISSN:
- Aufsatz (Zeitschrift) / Print
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Titel:High-K materials and metal gates for CMOS applications
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Beteiligte:Robertson, John ( Autor:in ) / Wallace, Robert M
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Erschienen in:Materials science and engineering / R ; 88 ; 1-41
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Verlag:
- Neue Suche nach: Elsevier Sequoia
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Erscheinungsort:Lausanne
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Erscheinungsdatum:2015
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ISSN:
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ZDBID:
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DOI:
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Medientyp:Aufsatz (Zeitschrift)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
- Neue Suche nach: 51.00
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Schlagwörter:
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Klassifikation:
BKL: 51.00 Werkstoffkunde: Allgemeines -
Datenquelle:
Inhaltsverzeichnis – Band 88
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High-K materials and metal gates for CMOS applicationsRobertson, John / Wallace, Robert M. et al. | 2014
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Editorial board| 2015