Ion beam sputter deposition of low-defect EUV mask blanks on 6-in. LTEM substrates in a real production environment (Englisch)
- Neue Suche nach: Becker, H.W.
- Neue Suche nach: Aschke, L.
- Neue Suche nach: Schubert, B.
- Neue Suche nach: Krieger, J.
- Neue Suche nach: Lenzen, F.
- Neue Suche nach: Yulin, S.A.
- Neue Suche nach: Feigl, T.
- Neue Suche nach: Kuhlmann, T.
- Neue Suche nach: Kaiser, N.
- Neue Suche nach: Becker, H.W.
- Neue Suche nach: Aschke, L.
- Neue Suche nach: Schubert, B.
- Neue Suche nach: Krieger, J.
- Neue Suche nach: Lenzen, F.
- Neue Suche nach: Yulin, S.A.
- Neue Suche nach: Feigl, T.
- Neue Suche nach: Kuhlmann, T.
- Neue Suche nach: Kaiser, N.
In:
Emerging Lithographic Technologies, 6
;
503-508
;
2002
-
ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
-
Titel:Ion beam sputter deposition of low-defect EUV mask blanks on 6-in. LTEM substrates in a real production environment
-
Beteiligte:Becker, H.W. ( Autor:in ) / Aschke, L. ( Autor:in ) / Schubert, B. ( Autor:in ) / Krieger, J. ( Autor:in ) / Lenzen, F. ( Autor:in ) / Yulin, S.A. ( Autor:in ) / Feigl, T. ( Autor:in ) / Kuhlmann, T. ( Autor:in ) / Kaiser, N. ( Autor:in )
-
Erschienen in:Emerging Lithographic Technologies, 6 ; 503-508Proceedings of the SPIE - The International Society for Optical Engineering ; 4688, pt.1-2 ; 503-508
-
Verlag:
-
Erscheinungsdatum:2002
-
Format / Umfang:6 Seiten, 6 Quellen
-
ISSN:
-
Coden:
-
DOI:
-
Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
-
Format:Print
-
Sprache:Englisch
-
Schlagwörter:
-
Datenquelle: