157 nm pellicles: polymer design for transparency and lifetime (Englisch)
- Neue Suche nach: French, R.H.
- Neue Suche nach: Wheland, R.C.
- Neue Suche nach: Qiu, Weiming
- Neue Suche nach: Lemon, M.F.
- Neue Suche nach: Blackman, G.S.
- Neue Suche nach: Zhang, E.
- Neue Suche nach: Gordon, J.
- Neue Suche nach: Liberman, V.
- Neue Suche nach: Grenville, A.
- Neue Suche nach: Kunz, R.R.
- Neue Suche nach: Rothschild, M.
- Neue Suche nach: French, R.H.
- Neue Suche nach: Wheland, R.C.
- Neue Suche nach: Qiu, Weiming
- Neue Suche nach: Lemon, M.F.
- Neue Suche nach: Blackman, G.S.
- Neue Suche nach: Zhang, E.
- Neue Suche nach: Gordon, J.
- Neue Suche nach: Liberman, V.
- Neue Suche nach: Grenville, A.
- Neue Suche nach: Kunz, R.R.
- Neue Suche nach: Rothschild, M.
In:
Optical Microlithography, 15
;
576-583
;
2002
-
ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:157 nm pellicles: polymer design for transparency and lifetime
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Beteiligte:French, R.H. ( Autor:in ) / Wheland, R.C. ( Autor:in ) / Qiu, Weiming ( Autor:in ) / Lemon, M.F. ( Autor:in ) / Blackman, G.S. ( Autor:in ) / Zhang, E. ( Autor:in ) / Gordon, J. ( Autor:in ) / Liberman, V. ( Autor:in ) / Grenville, A. ( Autor:in ) / Kunz, R.R. ( Autor:in )
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Erschienen in:Optical Microlithography, 15 ; 576-583
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:2002
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Format / Umfang:8 Seiten, 4 Quellen
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ISSN:
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Coden:
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DOI:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:Laserstrahleffekt , Membran , Molmasse , Photopolymer , Photochemie , Polymerstruktur , Oberfläche , Kontamination , Oberflächentopographie , optische Transparenz , Ultraviolettbestrahlung , Strahlungswirkung , Endgruppe , Sauerstoff , Schadstoff , Schichtdicke , Rauigkeit , Quantenausbeute , Ultraviolettlithographie
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Datenquelle: