90-nm lithography process characterization using ODP scatterometry technology (Englisch)
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In:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography, 18
;
597-604
;
2004
-
ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
-
Titel:90-nm lithography process characterization using ODP scatterometry technology
-
Beteiligte:Ke, Chih-Ming ( Autor:in ) / Yu, Shinn-Sheng ( Autor:in ) / Wang, Yu-Hsi ( Autor:in ) / Chou, Yu-Jun ( Autor:in ) / Chen, Jeng-Horng ( Autor:in ) / Lee, Bih-Huey ( Autor:in ) / Chu, Hong-Yuan ( Autor:in ) / Lin, Hua-Tai ( Autor:in ) / Gau, Tsai-Sheng ( Autor:in ) / Lin, Chih-Hsiang ( Autor:in )
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Erschienen in:
-
Verlag:
-
Erscheinungsdatum:2004
-
Format / Umfang:8 Seiten, 6 Quellen
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ISSN:
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Coden:
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DOI:
-
Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
-
Format:Print
-
Sprache:Englisch
-
Schlagwörter:
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Datenquelle: