MAPPER: high throughput maskless lithography (Englisch)
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In:
Emerging Lithographic Technologies, 12
;
69211P/1-69211P/9
;
2008
-
ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:MAPPER: high throughput maskless lithography
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Beteiligte:Slot, E. ( Autor:in ) / Wieland, M.J. ( Autor:in ) / Boer, G. de ( Autor:in ) / Kruit, P. ( Autor:in ) / ten Berge, G.F. ( Autor:in ) / Houkes, A.M.C. ( Autor:in ) / Jager, R. ( Autor:in ) / Peut, T. van de ( Autor:in ) / Peijster, J.J.M. ( Autor:in ) / Steenbrink, S.W.H.K. ( Autor:in )
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Erschienen in:Emerging Lithographic Technologies, 12 ; 69211P/1-69211P/9Proceedings of the SPIE - The International Society for Optical Engineering ; 6921 ; 69211P/1-69211P/9
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:2008
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Format / Umfang:9 Seiten, 9 Quellen
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ISSN:
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Coden:
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DOI:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle: