Schicht- und Prozessentwicklung für multifunktionale Schichtsysteme zur Entspiegelung und Verspiegelung. Abschlussbericht. Berichtszeitraum: 01.06.2004-31.05.2007
(Deutsch)
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Für Verglasungen und transparente Abdeckungen in den Branchen Displaytechnik, Automobilbau, Architekturverglasung und Lebenswissenschaften sollten physikalische und verfahrenstechnische Grundlagen für die Abscheidung multifunktionaler AR- und HR-Schichtsysteme erarbeitet werden. Aufgrund guter Schichthomogenitäten ist das Puls-Magnetron-Sputtern für großflächige Ver- und Entspiegelungsschichten prädestiniert. Die bei diesem Verfahren bei der Abscheidung multifunktionaler Schichten auftretende hohe thermische Belastung macht es schwierig, Polymersubstrate ohne Schädigung zu beschichten. Die oft unzureichende Haftung zwischen dem Polymersubstrat und dem Schichtsystem behindert den stärkeren Einsatz der Polymersubstrate, so dass zum Puls-Magnetron-Sputtern und auch zu den Polymersubstraten kompatible Vorbehandlungsmethoden benötigt werden. Durch eine Änderung und Optimierung der Parameter beim Puls-Magnetron-Sputtern und damit einhergehend der Beeinflussung der Energie und der Intensität der auf das Substrat auftreffenden Ionen sollen die Eigenschaften der abgeschiedenen Schichten vorteilhaft für die Abscheidung von multifunktionalen HR- bzw. AR-Schichten, bei gleichzeitiger Reduktion der thermischen Belastung, beeinflusst werden. Durch diese Optimierungen konnten erfolgreich multifunktionale HR- und AR-Schichten sowohl auf Glas als auch auf Polymersubstraten abgeschieden werden. Die Schichtsysteme wiesen neben ihrer optischen Eigenschaft zusätzlich hydrophobe, hydrophile oder photokatalytische Eigenschaften auf. Durch umfangreiche Vorbehandlungsuntersuchungen auf Kunststoffen konnte die Haftung verbessert oder Wege zur Vermeidung von Haftungsproblemen aufgezeigt werden. Die entwickelte in-situ-Schichtmessung erlaubt in Kombination mit einer entsprechenden Steuerung eine wesentlich bessere Reproduzierbarkeit der abzuscheidenden Schichtsysteme.
Schicht- und Prozessentwicklung für multifunktionale Schichtsysteme zur Entspiegelung und Verspiegelung. Abschlussbericht. Berichtszeitraum: 01.06.2004-31.05.2007