Aufbau eines Tieftemperaturmeßplatzes zum Einsatz eines Röntgen-Dilatometers zur Untersuchung der Gitterkonstanten von Silizium zwischen 10 und 340 Kelvin
(Deutsch)
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Es wird der genaue Aufbau des variablen Röntgenmeßplatzes für Tieftemperaturuntersuchungen an kristallinen Proben im Bereich von 10 Kelvin bis 340 Kelvin beschrieben. Das Röntgen-Dilatometer kann direkt die Einheitszelle messen, es muß nur ein kleiner Probenteil untersucht werden. Es gehen dabei keine weiteren Größen von Referenzmaterialien in die Messungen ein. Die Auflösung der relativen Gitterkonstantenänderung beträgt 5,7 x 10-7. Sie ist um den Faktor 10 besser als vergleichbare Röntgentechniken. Durch die zu ungenaue Probentemperaturbestimmung ergab sich einerseits eine Standardabweichung von delta a/a zu 3,2 x 10-6, andererseits ungenaue Expansionskoeffizienten. Der negative lineare Expansionskoeffizient bei tiefen Temperaturen konnte für Silizium anhand der Gittertheorie qualitativ erklärt werden. Es wird beschrieben, wie durch Temperaturabschirmungen, einen größeren Bragg-Winkel und mit nur zwei Kristallen die Auflösung bis auf 10-9 gesteigert werden kann. Die Dilatationsmessung an dem Meßplatz kann auch für die schiefsymmetrische zweiteilige Interferometrie verwendet werden.
Aufbau eines Tieftemperaturmeßplatzes zum Einsatz eines Röntgen-Dilatometers zur Untersuchung der Gitterkonstanten von Silizium zwischen 10 und 340 Kelvin
Weitere Titelangaben:
Construction of a low temperature measuring place with a X-ray dilatometer for investigation of the silicon lattice constant between 10 and 340 Kelvin