IAD of oxide coatings at low temperature: a comparison of processes based on different ion sources (Englisch)
- Neue Suche nach: Niederwald, H.S.
- Neue Suche nach: Kaiser, N.
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- Neue Suche nach: Duparre, A.
- Neue Suche nach: Ristau, D.
- Neue Suche nach: Kennedy, M.
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- Neue Suche nach: Kennedy, M.
In:
Optical Thin Films: New Developments, 5
;
205-213
;
1997
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ISSN:
- Aufsatz (Konferenz) / Print
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Titel:IAD of oxide coatings at low temperature: a comparison of processes based on different ion sources
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Beteiligte:Niederwald, H.S. ( Autor:in ) / Kaiser, N. ( Autor:in ) / Schallenberg, U.B. ( Autor:in ) / Duparre, A. ( Autor:in ) / Ristau, D. ( Autor:in ) / Kennedy, M. ( Autor:in )
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Erschienen in:Optical Thin Films: New Developments, 5 ; 205-213
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Verlag:
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Erscheinungsdatum:1997
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Format / Umfang:9 Seiten, 6 Quellen
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ISSN:
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Coden:
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DOI:
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Medientyp:Aufsatz (Konferenz)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:Absorptionsgrad , Adhäsion , Härte , Ionenplattieren , optische Dispersion , Plasmaabscheidung , Brechungsindex , Siliciumverbindung , Tantalverbindung , Titanverbindung , Niedrigtemperatur , Mischoxid , Verfahrensparameter , Ionenstrom , Schrägband , optische Eigenschaft , Beschichten mit Keramik , optische Absorption , optische Konstante , Tantaloxid , optische Fertigung , optische Dünnschicht , Glassubstrat , Siliciumsubstrat , Langzeitstabilität
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Datenquelle: