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Auger electron spectroscopy study of reactor walls in transition from an O2 to a Cl2 plasma
Online Contents | 2009| -
Effect of Cu contamination on recombination of O atoms on a plasma-oxidized silicon surface
Online Contents | 2009| -
PRESSURE PURGE ETCH METHOD FOR ETCHING COMPLEX 3-D STRUCTURES
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2018| -
Studies of chlorine-oxygen plasmas and evidence for heterogeneous formation of ClO and ClO2
Online Contents | 2009| -
Pressure purge etch method for etching complex 3-D structures
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2018| -
SYSTEMS AND METHODS FOR SEPARATELY APPLYING CHARGED PLASMA CONSTITUENTS AND ULTRAVIOLET LIGHT IN A MIXED MODE PROCESSING OPERATION
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
Systems and Methods for Separately Applying Charged Plasma Constituents and Ultraviolet Light in a Mixed Mode Processing Operation
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
Auger electron spectroscopy of surfaces during exposure to gaseous discharges
Online Contents | 2007| -
3-D PRESSURE PURGE ETCH METHOD FOR ETCHING COMPLEX 3-D STRUCTURES
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2018| -
Studies of chlorine-oxygen plasmas and evidence for heterogeneous formation of ClO and ClO2
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2009| -
Auger electron spectroscopy study of reactor walls in transition from an to a plasma
American Institute of Physics | 2009|
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