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Method and composition of a chemically amplified copolymer resist
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2018| -
Immersion lithography system using a sealed wafer bath
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2019| -
Methods for forming a stress-relieved film stack by applying cutting patterns
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
Immersion lithography system using a sealed wafer bath
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
Immersion Lithography System Using a Sealed Wafer Bath
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2019| -
Post Development Treatment Method and Material For Shrinking Critical Dimension of Photoresist Layer
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
Post Development Treatment Method and Material for Shrinking Critical Dimension of Photoresist Layer
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2018| -
Extreme ultraviolet lithography with reduced exposure dose and negative tone development
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2018| -
METHOD OF PRIMING PHOTORESIST BEFORE APPLICATION OF A SHRINK MATERIAL IN A LITHOGRAPHY PROCESS
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017|
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