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Fabrication and application of self-masked silicon nanostructures in deep reactive ion etching processes
Freier ZugriffTIBKAT | 2010| -
Fabrication and Application of Self-masked Silicon Nanostructures in Deep Reactive Ion Etching Processes
Freier ZugriffBASE | 2010| -
Formation of silicon grass: Nanomasking by carbon clusters in cyclic deep reactive ion etching
American Institute of Physics | 2011| -
Impact of device processing on the surface properties and the biocompatibility of AlGaN/GaN HEMT sensors
Freier ZugriffBASE | 2009| -
Formation of silicon grass: Nanomasking by carbon clusters in cyclic deep reactive ion etching 011002
Online Contents | 2011|Beteiligte: Kremin, Christoph
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