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Absolute measurement of the nitrogen fluorescence yield in air between 300 and 430nm
Online Contents | 2007| -
Absolute measurement of the nitrogen fluorescence yield in air between 300 and 430 nm
Freier ZugriffArXiv | 2007| -
Growth of high quality epitaxial CdxHg1-xTe films by sputter deposition
NationallizenzElsevier | 1982| -
Absolute measurement of the nitrogen fluorescence yield in air between 300 and 430nm
British Library Online Contents | 2007| -
Infrared Study of Hydrogen in Ultra-Thin Silicon Nitride Films Using Multiple Internal Reflection Spectroscopy (MIR) in 200 mm Silicon Wafers
British Library Conference Proceedings | 1999| -
Multiple internal reflection spectroscopy: a sensitive non-destructive probe for interfaces and nanometric layers
British Library Online Contents | 2001| -
Infrared Study of Hydrogen in Ultra-Thin Silicon Nitride Films Using Multiple Internal Reflection Spectroscopy (MIR) in 200 mm Silicon Wafers
British Library Online Contents | 1999|
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