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Passivation of air-exposed AlGaAs using low frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon nitride
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2006| -
Device Processing - Low-Energy Ion-Implantation-Induced Quantum-Well Intermixing
Online Contents | 2002| -
Passivation of air-exposed AlGaAs using low frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon nitride (3 pages)
British Library Online Contents | 2006| -
GaAs passivation by low-frequency plasma-enhanced chemical vapour deposition of silicon nitride
IET Digital Library Archive | 2004| -
Inhibition of Te surfactant effect on surface morphology of heavily Te-doped GaAs
British Library Online Contents | 2013| -
Mesoporous germanium morphology transformation for lift-off process and substrate re-use (5 pages)
British Library Online Contents | 2013| -
Control of mesoporous silicon initiation by cathodic passivation
British Library Online Contents | 2013| -
Neutral ion-implantation-induced selective quantum-dot intermixing
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2005| -
Carrier recombination near threading dislocations in GaN epilayers by low voltage cathodoluminescence
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2006| -
Corrigendum to “Inhibition of Te surfactant effect on surface morphology of heavily Te-doped GaAs†[J. Cryst. Growth 383C (2013) 30–35]
British Library Online Contents | 2014|
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