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Selective area growth of GaAs/AlxGa1−xAs multilayer structures with molecular beam epitaxy using Si shadow masks
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 1977| -
The preparation of GaAs thin‐film optical components by molecular beam epitaxy using Si shadow masking technique
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 1979| -
Vacuum interlock system for molecular beam epitaxy
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 1978| -
Bending of dislocations in GaN during epitaxial lateral overgrowth
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2004| -
Scaling quantum-dot light-emitting diodes to submicrometer sizes
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2002| -
High-quality AlInN for high index contrast Bragg mirrors lattice matched to GaN
British Library Online Contents | 2003| -
Fabrication and photoluminescence investigation of silicon nanowires on silicon-on-insulator material
American Institute of Physics | 1998| -
Study of oxygen incorporation in AlGaAs layers grown by molecular‐beam epitaxy
American Institute of Physics | 1989| -
Planar dielectric microcavity light-emitting diodes: Analytical analysis of the extraction efficiency
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2001| -
Injection et piegeage de charges dans les memoires non volatiles a semiconducteur
Tema Archiv | 1984|
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